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半導(dǎo)體制造中必要的微量氣體微量氧檢測與控制
日期：2025-10-29 00:14
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摘要：制造半導(dǎo)體所用的特殊氣體必須是離純度的，因?yàn)檫@一過程非常**。即使存在萬億分之一的微量雜質(zhì)，也會導(dǎo)致整批晶圓的損失。在這些應(yīng)用中，關(guān)鍵參數(shù)的可靠、可重復(fù)測量（檢測下限小于100PPT）至關(guān)重要。我們?yōu)槟峁┧嘘P(guān)鍵微量雜質(zhì)的可靠測量，許多參數(shù)的檢測水平低至十億分之一。您可以從單一供應(yīng)商提供的完整解決方案中獲得方便和安心。為了更加方便，還可以使用單個分析儀系統(tǒng)進(jìn)行多種微量雜質(zhì)測量。
監(jiān)測和控制特殊氣體中微量雜質(zhì)的完整解決方案
我們的氧氣和水分分析儀和傳感器，連同過程氣相色譜儀，提供了一個完整的解決方案來監(jiān)測和控制惰性氣體、特殊氣體和有毒氣體的純度，如：氮?dú)猓∟2）、氦氣（He）、氬氣（Ar）、氧氣（O2）、氫氣（H2）、六氟化鎢（WF6）、八氟環(huán)丁烷（C4F8），硅烷（SiH4）、鍺烷（GEH4）、一氧化二氮（N2O）和三氟化氮（NF3）。
產(chǎn)品選擇
高純氣體中的微量氧
| 應(yīng)用/服務(wù) | 測量范圍 | 測量氣體/背景氣 | 推薦產(chǎn)品 |
|---|---|---|---|
| 高純氣體中氧污染的監(jiān)測 | 0-100ppb | N2, H2, Ar | PI2-UHP100 & PI2-MS1000 |
| 監(jiān)測大氣釬焊和退火銅膜用高純氫**劑氣體的氧污染 | 0-100ppb O2 | N2, H2, Ar | PI2-UHP100 & PI2-MS1000 |
樣氣雜質(zhì)
| 樣氣 | 范圍 | AR(ldl) | H2(ldl) | CO2(ldl) | NMHC(ldl) | N2 | CO(ldl) | CH4(ldl) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
檢測下限
注:噪音水平是基于使用氦保護(hù)氣體的噪聲峰值
| 組分 | 濃度 (ppb) | 峰高 (mV) | 噪音(mV) | LDL (3 倍噪音) (ppt) |
|---|---|---|---|---|
